在(zai)生產(chan)(chan)過程中通過補加鹽酸(suan)(suan)(suan)(suan)(suan)+空(kong)氣、**酸(suan)(suan)(suan)(suan)(suan)鈉、鹽酸(suan)(suan)(suan)(suan)(suan)+雙氧(yang)水(shui)(shui)(shui)(shui)和少量的(de)添加劑(ji)來(lai)實現(xian)線路板(ban)板(ban)的(de)連續蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻生產(chan)(chan)。1)原料(liao)①氟(fu)化銨：分子式為NH4F，白色晶體，易潮解(jie)，易溶(rong)于水(shui)(shui)(shui)(shui)和甲醇，較(jiao)難(nan)溶(rong)于乙醇，能升華，在(zai)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻液(ye)(ye)中起腐蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)作(zuo)(zuo)用(yong)，一(yi)般(ban)(ban)(ban)選(xuan)(xuan)用(yong)工(gong)業產(chan)(chan)品。②草酸(suan)(suan)(suan)(suan)(suan)：在(zai)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻液(ye)(ye)中作(zuo)(zuo)還原劑(ji)使用(yong)，一(yi)般(ban)(ban)(ban)選(xuan)(xuan)用(yong)工(gong)業產(chan)(chan)品。③硫酸(suan)(suan)(suan)(suan)(suan)鈉：在(zai)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻液(ye)(ye)中作(zuo)(zuo)為填充劑(ji)使用(yong)，一(yi)般(ban)(ban)(ban)選(xuan)(xuan)用(yong)工(gong)業產(chan)(chan)品。④氫(qing)氟(fu)酸(suan)(suan)(suan)(suan)(suan)：即氟(fu)化氫(qing)的(de)水(shui)(shui)(shui)(shui)溶(rong)液(ye)(ye)，為無色液(ye)(ye)體，能在(zai)空(kong)氣中發煙，有(you)強烈腐蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)性和毒性，能侵蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)玻璃(li)，需貯存于鉛制(zhi)、蠟制(zhi)或塑(su)料(liao)容(rong)器中，可(ke)作(zuo)(zuo)為蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻玻璃(li)的(de)主要(yao)原料(liao)，一(yi)般(ban)(ban)(ban)選(xuan)(xuan)用(yong)工(gong)業品。⑤硫酸(suan)(suan)(suan)(suan)(suan)：純(chun)品為無色油狀液(ye)(ye)體，含雜質時呈(cheng)黃、棕等色。用(yong)水(shui)(shui)(shui)(shui)稀釋時，應(ying)將濃(nong)硫酸(suan)(suan)(suan)(suan)(suan)慢慢注入水(shui)(shui)(shui)(shui)中，并(bing)隨時攪和，而不能將水(shui)(shui)(shui)(shui)倒入濃(nong)硫酸(suan)(suan)(suan)(suan)(suan)中，以防濃(nong)硫酸(suan)(suan)(suan)(suan)(suan)飛濺(jian)而引發事故，可(ke)作(zuo)(zuo)為腐蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)助劑(ji)，一(yi)般(ban)(ban)(ban)選(xuan)(xuan)用(yong)工(gong)業品。蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻液(ye)(ye)應(ying)該怎么(me)使用(yong)啊？無錫鋁蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻液(ye)(ye)哪(na)家便(bian)宜

電(dian)(dian)(dian)解蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)機(ji)(ji)編(bian)輯播報電(dian)(dian)(dian)蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)是(shi)利用(yong)金屬(shu)(shu)在以(yi)(yi)自來水(shui)或(huo)鹽(yan)水(shui)為蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)主體的(de)液(ye)(ye)體中發生陽極溶解的(de)原理(li)，（電(dian)(dian)(dian)解的(de)作用(yong)下(xia)）將(jiang)金屬(shu)(shu)進行蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)，接通蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)電(dian)(dian)(dian)源，從(cong)而達到蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)的(de)目的(de)。市售的(de)電(dian)(dian)(dian)解蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)機(ji)(ji)都是(shi)手動噴淋式的(de)，并且(qie)都是(shi)以(yi)(yi)鹽(yan)水(shui)為蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)溶液(ye)(ye)，功率有(you)大小(xiao)二種，優(you)點：無污染(ran)(ran)，但只有(you)蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)一個(ge)步驟無污染(ran)(ran)是(shi)不(bu)(bu)行的(de)，其他工(gong)序也(ye)必須無污染(ran)(ran)，適合實驗生產、凹(ao)字(zi)(zi)小(xiao)面積(ji)蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)。主要用(yong)做(zuo)(zuo)研(yan)究(jiu)實驗機(ji)(ji)，或(huo)者簡(jian)單的(de)在金屬(shu)(shu)上蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)標記，也(ye)稱為電(dian)(dian)(dian)打標。缺點：蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)面不(bu)(bu)均勻(yun)，大面積(ji)腐蝕(shi)(shi)速度慢，不(bu)(bu)能用(yong)于量(liang)產，也(ye)不(bu)(bu)能做(zuo)(zuo)凸字(zi)(zi)大面積(ji)蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)，不(bu)(bu)能用(yong)做(zuo)(zuo)標牌的(de)大批量(liang)生產加工(gong)。由(you)于電(dian)(dian)(dian)解蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)是(shi)在金屬(shu)(shu)導(dao)電(dian)(dian)(dian)的(de)情況下(xia)形成蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)的(de)，那么我(wo)們的(de)產品在蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)下(xia)去(qu)有(you)任(ren)何的(de)深度時側面也(ye)將(jiang)被蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)的(de)，這(zhe)樣(yang)很多精細圖(tu)案(an)，精細文字(zi)(zi)將(jiang)被蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)”爛“掉(diao)。無錫(xi)鹽(yan)酸三氯化鐵蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)液(ye)(ye)哪家(jia)好蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)液(ye)(ye)書寫文字(zi)(zi)或(huo)圖(tu)案(an)于玻璃上。

蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)(ye)-蘇(su)州(zhou)圣天邁電子科技有(you)(you)限公司再(zai)生(sheng)需(xu)要有(you)(you)過(guo)量(liang)的(de)NH3和NH4Cl存在(zai)，如果溶(rong)液(ye)(ye)中(zhong)(zhong)缺乏(fa)NH4Cl，大量(liang)的(de)[Cu(NH3)2]+得不到再(zai)生(sheng)，蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)速(su)(su)率(lv)(lv)(lv)就會降低，以致(zhi)失去(qu)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)能力。所以，氯化銨(an)的(de)含量(liang)對(dui)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)速(su)(su)率(lv)(lv)(lv)影(ying)響(xiang)很(hen)(hen)大。隨著(zhu)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)的(de)進行，要不斷補加(jia)氯化銨(an)。d、溫度(du)(du)的(de)影(ying)響(xiang)：蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)速(su)(su)率(lv)(lv)(lv)與溫度(du)(du)有(you)(you)很(hen)(hen)大關系，蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)速(su)(su)率(lv)(lv)(lv)隨著(zhu)溫度(du)(du)的(de)升(sheng)高而加(jia)快。蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)(ye)溫度(du)(du)低于40℃，蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)速(su)(su)率(lv)(lv)(lv)很(hen)(hen)慢(man)，而蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)速(su)(su)率(lv)(lv)(lv)過(guo)慢(man)會增大側蝕(shi)(shi)(shi)(shi)量(liang)，影(ying)響(xiang)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)質(zhi)量(liang)；溫度(du)(du)高于60℃，蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)速(su)(su)率(lv)(lv)(lv)明(ming)顯增大，但NH3的(de)揮(hui)發(fa)量(liang)也**增加(jia)，導致(zhi)污染環境(jing)并使蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)(ye)中(zhong)(zhong)化學組(zu)分比例失調(diao)。故(gu)溫度(du)(du)一般控(kong)制在(zai)45~55℃為宜(yi)。氯化鐵(tie)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)(ye)1)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)機理：FeCl3+Cu→FeCl2+CuClFeCl3+CuCl→FeCl2+CuCl2CuCl2+Cu→2CuCl2)影(ying)響(xiang)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)速(su)(su)率(lv)(lv)(lv)的(de)因(yin)素：a、Fe3+濃度(du)(du)的(de)影(ying)響(xiang)：Fe3+的(de)濃度(du)(du)對(dui)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)速(su)(su)率(lv)(lv)(lv)有(you)(you)很(hen)(hen)大的(de)影(ying)響(xiang)。蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)(ye)中(zhong)(zhong)Fe3+濃度(du)(du)逐漸增加(jia)，對(dui)銅的(de)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)速(su)(su)率(lv)(lv)(lv)相(xiang)應加(jia)快。當所含超(chao)過(guo)某(mou)一濃度(du)(du)時，由于溶(rong)液(ye)(ye)粘度(du)(du)增加(jia)，蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)(ke)速(su)(su)率(lv)(lv)(lv)反而有(you)(you)所降低。

鈦(tai)蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)劑(ji)TFT是設(she)計用來(lai)蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)通常在微電子(zi)產品中(zhong)作(zuo)為連結層和(he)阻擋層的蒸發(fa)法薄(bo)膜的蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)劑(ji)。這種蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)劑(ji)光刻(ke)膠匹配(pei)性良好、分(fen)辨率(lv)高、邊下蝕(shi)(shi)(shi)現象低。鈦(tai)蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)劑(ji)TFTN用來(lai)蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)玻璃或SiO2基板上的Ti沉積膜。TFTN并(bing)不(bu)含有(you)氫氟酸(suan)。性質(zhi)TFTTFTN外觀澄清(qing)水(shui)溶液澄清(qing)水(shui)溶液PH11閃點不(bu)可(ke)燃(ran)不(bu)可(ke)燃(ran)貯存(cun)室(shi)(shi)溫室(shi)(shi)溫有(you)效(xiao)期1年(nian)1年(nian)毒性強(qiang)酸(suan)強(qiang)酸(suan)操(cao)作(zuo)蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)容器聚(ju)乙(yi)烯(xi)/聚(ju)丙烯(xi)聚(ju)乙(yi)烯(xi)/聚(ju)丙烯(xi)溫度(du)20～50℃70～85℃蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)速(su)率(lv)25?/秒(miao)(miao)，20℃50?/秒(miao)(miao)，30℃10?/秒(miao)(miao)，70℃50?/秒(miao)(miao)，80℃沖洗水(shui)水(shui)*匹配(pei)光刻(ke)膠陰性和(he)陽性陰性和(he)陽性金屬(shu)——除Al以外的大多數金屬(shu)。蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)液應具(ju)備的技術性能。

蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)根(gen)據材(cai)料、工(gong)(gong)藝要求不(bu)同，可(ke)以分(fen)為很多(duo)種，比如AL鋁(lv)蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)，銅蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)、ITO蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)、鈦蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)、鉻蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)、銀蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)，鎳(nie)蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)、鎳(nie)鉻硅蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)、金(jin)蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)、鎳(nie)鈀金(jin)蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)，鋁(lv)蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)不(bu)傷(shang)ITO、銅蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)不(bu)傷(shang)ITO、鈦蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)不(bu)銅鎳(nie)等等。圣天(tian)邁專注電子精細化工(gong)(gong)，表面處理等特殊化學藥(yao)品(pin)藥(yao)劑。圣天(tian)邁蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)品(pin)種規(gui)格(ge)齊全，針對IC芯(xin)片、電子元器件、晶圓、硅片、PCB、FPC、顯示屏(ping)、觸摸(mo)屏(ping)、AR屏(ping)、OLED、LCD、Microled、觸摸(mo)膜、金(jin)屬網格(ge)、MetalMech等，均(jun)有匹配型(xing)號(hao)。圣天(tian)邁也可(ke)根(gen)據客戶需(xu)要定制研(yan)發各類藥(yao)劑。蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)的成(cheng)分(fen)與(yu)用途是什么？PCB蝕(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)價(jia)格(ge)

第四代產(chan)品：氯化銅型(酸性(xing)、堿性(xing))蝕(shi)刻(ke)(ke)液(ye)。無錫(xi)鋁蝕(shi)刻(ke)(ke)液(ye)哪家便宜(yi)

不同材(cai)料對三氯(lv)(lv)(lv)化(hua)鐵(tie)(tie)(tie)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)液濃(nong)度的(de)要(yao)求詳解氯(lv)(lv)(lv)化(hua)鐵(tie)(tie)(tie)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)液用(yong)作(zuo)(zuo)凈(jing)水劑(ji)(ji)、蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)劑(ji)(ji)、媒(mei)染劑(ji)(ji)、銀銅(tong)礦(kuang)浸(jin)出劑(ji)(ji)、玻璃器皿熱(re)著色(se)(se)劑(ji)(ji)、氯(lv)(lv)(lv)苯二氯(lv)(lv)(lv)乙烷有機合成催(cui)化(hua)劑(ji)(ji)等。也(ye)可用(yong)作(zuo)(zuo)鐵(tie)(tie)(tie)鹽原料，如磷酸鐵(tie)(tie)(tie)、鉻鐵(tie)(tie)(tie)礦(kuang)等。此外，它還可以(yi)提高混(hun)凝土強(qiang)度、耐腐(fu)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)性和(he)防水滲(shen)透性。1、鋁材(cai)料，三氯(lv)(lv)(lv)化(hua)鐵(tie)(tie)(tie)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)液濃(nong)度應(ying)控(kong)制在25Be，溫度在30°合適(shi)，因為鋁材(cai)料的(de)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)放熱(re)量比較大，濃(nong)度太高會使抗蝕(shi)(shi)(shi)(shi)油墨(mo)剝離(li)(li)，導致底紋不平整(zheng)或者發黑(hei)。濃(nong)度高三氯(lv)(lv)(lv)化(hua)鐵(tie)(tie)(tie)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)液就像(xiang)是(shi)高溫煎油餅一(yi)樣，時間越長，低溫顏色(se)(se)越黑(hei)。2、銅(tong)材(cai)料，三氯(lv)(lv)(lv)化(hua)鐵(tie)(tie)(tie)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)液濃(nong)度一(yi)般在40Be上下(xia)(xia)，溫度好在45到(dao)50度，這(zhe)樣蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)速(su)率(lv)(lv)較快(kuai)，當銅(tong)離(li)(li)子達(da)到(dao)70G/L時，蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)速(su)率(lv)(lv)會下(xia)(xia)降，所以(yi)需要(yao)在蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)時在添(tian)加還原劑(ji)(ji)和(he)及(ji)鹽酸來提供三價(jia)鐵(tie)(tie)(tie)離(li)(li)子，這(zhe)樣能(neng)夠保持相對穩(wen)定的(de)速(su)度。無(wu)錫(xi)鋁蝕(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)液哪家便宜(yi)

本(ben)文來自(zi)鞏(gong)義市鑫海(hai)聯電子商貿(mao)有限公司：//cadinfo.com.cn/Article/0b6099939.html